Metrologie is onmisbaar voor de halfgeleiderindustrie
In de productie van geavanceerde chips, PIC’s en vermogenselektronica is elke nanometer en elke picoseconde relevant. Nieuwe node‑generaties, 3D‑architecturen en wide bandgap‑materialen als SiC en GaN vergroten de complexiteit. Tegelijk staat de druk op prijs en doorlooptijd hoog.
Maar zonder onafhankelijke referentie heb je niet altijd het antwoord op vragen als: wat is de echte kritische dimensie van deze structuur? Hoe betrouwbaar is mijn meting bij extreme aspect ratios? Of hoe presteert een nieuw device onder cryogene omstandigheden? Zonder traceerbare referenties is het lastig technologieën te benchmarken, specificaties te onderbouwen, en overtuigend aan te tonen dat je voldoet aan normen en afspraken.